ASTRA to systemy próżniowe do masowej produkcji o układzie horyzontalnym, bazujące na napylaniu w polu magnetycznym (magnetron sputtering deposition). Główną cechą wyróżniającą ten system jest jego pozioma konstrukcja załadunku substratów. Podłoża są umieszczane na przenośniku transportowym, poruszającym się wzdłuż urządzenia, przechodząc przez kolejne etapy próżni i korytarzy procesowych. Na koniec nośniki powracają do ciśnienia atmosferycznego poprzez komorę próżniową typu load - lock. Nośniki transportowane są do strefy załadunku na przenośniku powrotnym pracującym w ciśnieniu atmosferycznym, który znajduje się pod komorą w celu zaoszczędzenia miejsca.

Zalety:

• Brak nie powleczonej powierzchni na podłożu
• Łatwy załadunek i automatyzacja
• Elastyczność przenośnika powrotnego
• Możliwość dwustronnego nanoszenia
• Stabilność procesu dzięki stałej próżni i warunkom gazu roboczego.

Ze względu na konstrukcję rozpylania od góry do dołu, aby wyeliminować ryzyko przedostania się cząsteczek na podłoże, średni czas pomiędzy konserwacjami (MTBM)  jest krótszy.

Adaptacje systemów ASTRA:

ASTRA - M - dla masowej produkcji o średniej wielkości

ASTRA - S - dla małej wielkości produkcji, na potrzeby laboratoryjne, R&D, testów pilotażowych, dostrajania procesów

Dostępne procesy powlekania

Struktura modularna pozwala na produkcję różnych warstw filmów (ilość warstw) o różnych czasach cyklu poprzez instalację dodatkowych komór z stacjami rozpylania. Główne procesy realizowane w urządzeniach ASTRA:

• Struktury ITO oraz TCO
• Dopasowywane indeksowo ITO dla ekranów dotykowych
• Powłoki antyrefleksyjna na szkle ochronnym (AR)
• Powłoki AR oraz AF (anti-fingerprint)
• Powłoki kolorowe NCVM na szkle i podłożach plastikowych (PET)
• Powłoki metalizacyjne

Jednym z głównych atutów urządzeń liniowych jest wyjątkowa stabilność procesu. Została ona osiągnięta nie tylko dzięki ustandaryzowaniu parametrów i ich kontroli, ale także dzięki  zaprojektowaniu systemu transportowego, który porusza nośnikami z zerową przerwą pomiędzy nimi, gdy osiągają stacje rozpylania. To rozwiązanie pomogło konsekwentnie ustabilizować warunki plazmy i uczynić proces niezawodnym i powtarzalnym, zapewniając wysoką jakość powłok.