System Pioneer 120 PLD to zaawansowane urządzenie przeznaczone do przygotowywania wysokiej jakości filmów epitaksjalnych, heterostruktur wielowarstwowych oraz supersieci. Jego kluczową cechą jest precyzyjne sterowanie temperaturą podłoża, dzięki zastosowaniu grzałki kondukcyjnej (w modelu standardowym) lub radiacyjnej (w wersji Advanced). System charakteryzuje się kompatybilnością z tlenem, co czyni go idealnym rozwiązaniem do przygotowywania tlenkowych filmów epitaksjalnych. Dzięki automatycznej karuzeli wielo-targetowej, precyzyjnej kontroli ciśnienia procesu i zaawansowanemu oprogramowaniu, Pioneer 120 zapewnia wysoką elastyczność i wydajność w produkcji materiałów o skomplikowanej strukturze.

Główne cechy systemu:

• Automatyczna karuzela wielo-targetowa
• Precyzyjna kontrola parametrów procesu
• Kompatybilność z tlenem
• Wysoka jakość warstw
• Opcje rozbudowy: Możliwość integracji z innymi platformami do osadzania (np. UHV Sputter Systems) oraz systemami analitycznymi (np. XPS, ARPES)